米国のハワード・ラトニック商務長官は、ASML Holding NVに対し、最高性能の露光装置が中国に転用された可能性があると述べた[1]。

極端紫外線（EUV）露光装置は、最先端の半導体を製造するために不可欠であるため、この状況は重大な安全保障上の火種となっている。もし中国がこの装置を入手すれば、国内のチップ製造能力を大幅に加速させ、中国の軍事および人工知能（AI）技術の成長を制限しようとする米国の取り組みを損なう可能性がある。

今週、ワシントンの米国当局者とオランダ・アイントホーフェンのASML幹部は、この潜在的な侵害に対処するため、安全保障に焦点を当てた協議を行った[2]。米国政府は、厳格な輸出管理があるにもかかわらず、チップ製造装置の中で最も高度なタイプであるハイエンドのEUV装置が中国に流入した可能性があることを懸念している[1], [3]。

ASMLは、自社のEUV露光装置は一台も中国に出荷されていないと述べた[4]。同社は世界の半導体サプライチェーンにおいて中心的な役割を担っており、時価総額は7,000億ドルを超えている[5]。

米国当局者は、こうした装置が中国の半導体能力を向上させることが、国家安全保障上のリスクになると見ている[1], [3]。米国政府の懸念と企業の否定との乖離は、高価値のテクノロジーが製造元を離れた後の追跡がいかに困難であるかを浮き彫りにしており、これは国際的な貿易制裁の執行を複雑にする課題となっている。

EUV装置は非常に巨大で複雑であるため、通常、運用には大規模なインフラと製造元による継続的なサポートが必要となる。しかし、米国は第三者の仲介者や秘密裏の出荷を通じた不法な転用のリスクを引き続き監視している[2], [3]。

“米国当局者は、最先端のEUV露光装置が中国の半導体能力を向上させることを懸念している。”

この紛争は、米国と中国の間で激化する「チップ戦争」を強調している。ASMLに圧力をかけることで、米国は輸出管理体制の抜け穴を塞ぎ、最先端の製造ハードウェアが中国の国家支援企業に渡らないようにしようとしている。米国のインテリジェンス上の懸念とASMLの企業としての否定との矛盾は、特殊ハードウェアの最終目的地に関する可視性にギャップがある可能性を示唆している。