米国、ASML製装置の中国への流用に懸念を表明

米国当局は、ASMLが極端紫外線（EUV）露光装置を中国に流用させる可能性があるとして懸念を表明した ^[1]。

EUV技術は世界で最も高度な半導体を製造するために不可欠であるため、この展開は極めて重要である。もし中国がこれらの装置を入手すれば、国内のチップ製造能力を大幅に加速させ、ハイエンド技術の流入を制限しようとする米国の取り組みを弱体化させる可能性がある。

今回の警告は、オランダの半導体装置メーカーであるASMLが、既存の輸出管理合意に違反する可能性に焦点を当てている ^[1]。これらの規則は、軍事目的や戦略的目的に使用され得る機密技術の移転を防ぐために設計されている。米当局は、高額な装置のいかなる流用も、これらの制限の精神および条文に違反すると述べた ^[1]。

ASMLは、シリコンウェハー上に最小の回路をプリントするために必要なEUV露光システムの唯一の供給者である。この独占的な地位により、同社は技術的覇権を巡る米中間の地政学的争いの焦点となっている。米国政府は、これらの装置が中国の工場に到達しないよう、オランダと緊密に連携してきた ^[1]。

米国とオランダはこれらの販売を阻止するための枠組みを構築しているが、流用のリスクは依然としてワシントンの主要な懸念事項である。第三者経由や規制の抜け穴を通じて装置が転送される可能性が、同社に対する米国の外交的圧力の原動力となっている ^[1]。

当局は具体的な流用の事例については詳述していないが、輸出管理体制の整合性が最優先事項であるとしている。米国は、国際的なセキュリティ基準への準拠を確実にするため、最先端の露光装置の動向を継続的に監視している ^[1]。